1.本实用新型涉及氪氙提取设备技术领域，具体涉及一种氪氙提取工艺除氡机。
背景技术：
2.空气中含有微量的氡，在氪氙提取过程中，随着氪氙浓缩的进行，氡的浓度也会越来越高，尤其在氪氙浓缩物精制的过程中，氡的各种同位素浓度会达到最高值，衰变产生的放射性会对人体健康产生影响。
3.根据公告号cn215311259u公开的一种氪氙提取工艺中去除氡的装置，该氪氙提取工艺中去除氡的装置能够较为快速的对氡进行液化并将其分离，且设备的防辐射性能较好，在对氡进行分离时能够有效阻挡其衰变所产生的放射性元素，设置的箍环能够将连接管与外部管道之间的接口进行加固，以防止设备在使用时出现气体泄漏的情况，设置的导流板能够有效防止设备在工作时液化的氡残留于设备内部，同时设置的密封条能够保证设备在使用时液化的氡流入收料盒内部时不会出现渗漏的现象，从而使设备在使用时的安全性得到提升。
4.然而氪氙混合气体在内壳中的留存时间较短，氪氙中的氡在较短的时间内难以冷凝完全，使得氡的去除率不佳。
技术实现要素：
5.本实用新型的目的在于提供一种氪氙提取工艺除氡机，以解决上述背景技术中提出的问题。
6.为实现上述目的，本实用新型提供如下技术方案：一种氪氙提取工艺除氡机，包括：机箱，所述机箱连接冷凝装置，所述冷凝装置用于降低所述机箱内的温度，所述机箱内设置紊流装置，所述紊流装置用于干扰所述机箱内的气流。
7.优选的，所述冷凝装置包括制冷机，所述制冷机设置在所述机箱顶部，所述机箱内固定安装有冷凝板，所述冷凝板与所述制冷机电性连接，所述制冷机一侧设置温度传感器，所述温度传感器穿过所述机箱顶部并延伸至所述机箱内。
8.优选的，所述冷凝板下方设置固定板，所述固定板固定安装在所述机箱内，所述固定板顶部设置斜顶，所述固定板底部连接引风机。
9.优选的，所述紊流装置包括紊流板，若干个所述紊流板固定安装在所述机箱内壁。
10.优选的，所述紊流板设置遮挡部，所述遮挡部延伸至缓冲部，所述缓冲部延伸至扩散部，所述扩散部延伸至引流部。
11.优选的，所述机箱内固定安装有挡板，所述挡板设置弧面，所述挡板上开设若干个气孔。
12.优选的，所述挡板底部设置圆角。
13.优选的，所述挡板下方设置导流板，所述导流板中心处设置通孔，所述通孔内设置电磁阀，所述导流板顶部设置斜面。
14.优选的，所述导流板下方设置收料盒，所述收料盒上设置拉环，所述机箱正面开设定位孔，所述定位孔与所述收料盒滑动连接，所述机箱上设置定位框，所述定位框设置在所述定位孔外部，所述定位框与所述收料盒滑动连接。
15.优选的，所述机箱夹层中设置铅板，所述机箱一侧设置进气管道，所述机箱另一侧设置出气管道，所述出气管道内设置单向膜，所述机箱正面设置控制器，所述机箱底部固定安装有垫片。
16.该氪氙提取工艺除氡机具备以下有益效果：
17.该氪氙提取工艺除氡机，氪氙混合气体进入机箱内，冷凝装置对机箱内降温，使氪氙中的氡液化，将氡与氪氙气体进行分离，紊流装置扰动气流使氪氙气体中的流体质点在机箱内相互混掺和扩散，延长了气体在机箱内的留滞时间，使得氪氙中的氡在机箱内冷凝时间更久，液化程度更高，提高了氡的去除率。
附图说明
18.图1为本实用新型结构的立体图；
19.图2为图1中机箱的剖视图；
20.图3为图1中a处的放大图；
21.图4为图2中固定板的仰视图；
22.图5为图2中紊流板的示意图；
23.图6为图2中挡板的示意图；
24.图7为图2中导流板的示意图。
25.图中：1、机箱；2、铅板；3、进气管道；4、出气管道；5、单向膜；6、冷凝装置；601、制冷机；602、冷凝板；603、温度传感器；604、固定板；605、斜顶；606、引风机；7、紊流装置；701、紊流板；702、遮挡部；703、缓冲部；704、扩散部；705、引流部；706、挡板；707、弧面；708、圆角；709、气孔；8、导流板；801、通孔；802、斜面；9、收料盒；10、拉环；11、定位孔；12、定位框；13、控制器；14、垫片。
具体实施方式
26.下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。
27.如图1-图2所示，本实用新型提供一种氪氙提取工艺除氡机的实施例，包括：机箱1，机箱1夹层中设置铅板2，铅板2密度高，使得铅板2颗粒之间的缝隙非常小，小于紫外光谱长度，即小于辐射产生的光谱长度，这样辐射的波长就通过不了铅板2，即隔离氡的同位素衰变产生的辐射，机箱1一侧设置进气管道3，机箱1另一侧设置出气管道4，出气管道4内设置单向膜5，氪氙气体从进气管道3进入，去除氡后通过单向膜5并从出气管道4中输出，机箱1正面设置控制器13，机箱1底部固定安装有垫片14。
28.如图1-图2所示，机箱1连接冷凝装置6，冷凝装置6用于降低机箱1内的温度。
29.进一步的，如图2、图4所示，冷凝装置6包括制冷机601，制冷机601设置在机箱1顶
部，机箱1内固定安装有冷凝板602，冷凝板602与制冷机601电性连接，制冷机601一侧设置温度传感器603，温度传感器603穿过机箱1顶部并延伸至机箱1内，温度传感器603检测机箱1内的温度，使机箱1内的温度达到使氡液化的温度，冷凝板602下方设置固定板604，固定板604固定安装在机箱1内，固定板604顶部设置斜顶605，部分冷凝后的氡会附着在固定板604顶部，设置斜顶605使附着的液化氡因重力而向下汇流并从固定板604上滴落，固定板604底部连接引风机606。
30.如图2所示，机箱1内设置紊流装置7，紊流装置7用于干扰机箱1内的气流。
31.具体的，如图2、图5-图6所示，紊流装置7包括紊流板701，若干个紊流板701固定安装在机箱1内壁，紊流板701设置遮挡部702，氪氙气体流动时经遮挡部702遮挡，使氪氙气体中的流体质点在机箱1内相互混掺，降低了气流的流速且影响气流的流向，遮挡部702延伸至缓冲部703，气流经遮挡部702运动至缓冲部703，再次降低了气体流速，缓冲部703延伸至扩散部704，气体运动至扩散部704，并向各个方向流动，使氪氙气体因质点紊动发生扩散，扩散的氪氙气体在各个方向与其他氪氙气流混掺，相互影响气流流速，扩散部704延伸至引流部705，部分气流经引流部705向上运动，与冷凝板602的距离更近，使得氡的冷凝效果更佳，机箱1内固定安装有挡板706，挡板706设置弧面707，氪氙气体与挡板706接触时，弧面707降低了冲击力，挡板706阻隔部分氪氙气体，使得氪氙气体在降低流速的同时产生回流，继续参与冷凝液化，从而增加了氪氙气体中氡的冷凝时间，使其液化程度更高，提高氡的去除率，挡板706上开设若干个气孔709，氪氙气体通过气孔709流入出气管道4，挡板706底部设置圆角708，使挡板706上附着的液化氡从弧面707上滑落至圆角708，并滴落。
32.如图2-图3、图7所示，挡板706下方设置导流板8，导流板8中心处设置通孔801，通孔801内设置电磁阀，导流板8顶部设置斜面802，液化氡顺着斜面802在通孔801中汇集并滴落，导流板8下方设置收料盒9，收料盒9承接通孔801中汇集的液化氡，收料盒9上设置拉环10，机箱1正面开设定位孔11，定位孔11与收料盒9滑动连接，机箱1上设置定位框12，定位框12设置在定位孔11外部，定位框12与收料盒9滑动连接。
33.工作原理：经冷凝板602对机箱1内降温，温度传感器603监测机箱1内的温度，氪氙气体从进气管道3进入机箱1内，氪氙气体中的氡冷凝液化，氪氙气体通过紊流板701与挡板706紊流，延长了氡的冷凝时间，从而增加氪氙气体中氡的去除率。
34.综上可得，尽管已经示出和描述了本实用新型的实施例，对于本领域的普通技术人员而言，可以理解在不脱离本实用新型的原理和精神的情况下可以对这些实施例进行多种变化、修改、替换和变型，本实用新型的范围由所附权利要求及其等同物限定。