技术特征：
1.一种cmp用铈钇研磨材料的制备方法，包括：将铈、钇的可溶性盐分别溶解，混合后得到钇铈混合溶液，采用均相共沉淀法制得氢氧化铈钇；将氢氧化铈钇中的低价铈氧化成高价铈，反应物过滤后将滤饼放入高压反应釜中，水热反应得到作为铈钇研磨材料的铈、钇的氧化物；氧化钇的含量为稀土氧化物总量的0.5～15w％，氧化铈的含量为稀土氧化物总量的88～99.5w％。2.如权利要求1所述的cmp用铈钇研磨材料的制备方法，其特征在于，可溶性盐选用硝酸盐、氯化物、硫酸盐、醋酸盐、柠檬酸盐。3.如权利要求1所述的cmp用铈钇研磨材料的制备方法，其特征在于，沉淀剂选用尿素或者氨水。4.如权利要求1所述的cmp用铈钇研磨材料的制备方法，其特征在于，将硝酸铈、硝酸钇分别溶解，将两种溶液按摩尔比为y2o3：ceo2＝0.5～1:5.9～7的设定比例混合得到钇铈混合硝酸溶液，用氨水为沉淀剂共沉淀，制得氢氧化铈钇。5.如权利要求1所述的cmp用铈钇研磨材料的制备方法，其特征在于，将硝酸铈、硝酸钇分别溶解，将两种溶液按摩尔比为y2o3：ceo2＝0.5～1:5.9～7的设定比例混合得到钇铈混合硝酸溶液；先用氨水将钇铈混合硝酸溶液调节ph＝3～4，按reo：co(h2n)2＝1:2～2.5的比例加入尿素，恒温80℃～85℃均相沉淀制得氢氧化铈钇。6.如权利要求1所述的cmp用铈钇研磨材料的制备方法，其特征在于，均相共沉淀时使用防再团聚的表面活性剂，表面活性剂选用阴离子表面活性剂、非离子表面活性剂或二者的组合；阴离子表面活性剂选用：聚丙烯酸钠、聚丙烯酸铵、十二烷基硫酸钠、十六烷基硫酸钠、十八烷基硫酸钠、二辛基琥珀酸磺酸钠、十二烷基苯磺酸钠；非离子表面活性剂选用：聚乙二醇、壬基酚聚氧乙烯醚、辛基酚聚氧乙烯醚。7.如权利要求1所述的cmp用铈钇研磨材料的制备方法，其特征在于，利用空气或者利用氧化剂将氢氧化铈钇中的低价铈氧化成高价铈。8.如权利要求1所述的cmp用铈钇研磨材料的制备方法，其特征在于，氧化铈是三价铈与四价铈的混合氧化物，其中四价铈的含量占总铈不小于90％，铈、钇的氧化物加入助剂得到成品抛光粉或抛光浆料。
技术总结
本发明公开了一种cmp用铈钇研磨材料的制备方法，包括：将铈、钇的可溶性盐分别溶解，混合后得到钇铈混合溶液，采用均相共沉淀法制得氢氧化铈钇；将氢氧化铈钇中的低价铈氧化成高价铈，反应物过滤后将滤饼放入高压反应釜中，水热反应得到作为铈钇研磨材料的铈、钇的氧化物。本发明制备的铈钇抛光浆料纯度高，金属钠离子含量小于0.5ppm，分散性好、颗粒均匀、研磨效率高。效率高。效率高。
技术研发人员：周薇 赵延 刘露涛 程磊 杜悦 王泽 门宇剑 黄绍东 杨国胜 张存瑞
受保护的技术使用者：包头天骄清美稀土抛光粉有限公司
技术研发日：2020.08.19
技术公布日：2023/10/15