1.本技术涉及显示设备技术领域，特别是涉及一种测量治具和光轴测量设备。
背景技术：
2.显示设备包括透光基板和贴合于透光基板上的光学元件，根据制程要求，需要使贴合于透光基板上的光学元件(如偏光片)的光轴处于预设方向。相关技术中，通常利用光轴测量设备对光学元件的光轴的方向进行测量，然而，传统的光轴测量设备的测量准确性较低。
技术实现要素：
3.基于此，有必要针对传统的光轴测量设备的测量准确性较低的问题，提供一种测量治具和光轴测量设备。
4.根据本技术的一个方面，提供了一种测量治具，所述测量治具用于辅助测量光学组件，所述光学组件包括透光基板和设于所述透光基板上的光学元件，所述测量治具用于辅助测量所述光学元件的光轴相对于所述透光基板的中心轴的偏差度，所述测量治具包括：
5.承载部件，包括用于承载所述光学组件的承载部，以及围绕于所述承载部设置的第一限位部；所述第一限位部限位于所述承载部上的所述光学组件的外侧；以及
6.盖板，包括盖板本体和第二限位部，所述盖板本体可拆卸地设于所述承载部沿第一方向的第一侧，以被固定于预设位置；
7.所述盖板本体沿所述第一方向贯穿设有测量孔；
8.所述第二限位部设于所述盖板本体朝向所述承载部的一侧，且围绕所述测量孔设置；
9.当所述盖板本体处于所述预设位置时，所述第二限位部沿所述第一方向抵接于所述光学组件背离所述承载部的一侧，以使所述光学组件能够以预设位姿固定于所述承载部件上。
10.在其中一个实施例中，所述第二限位部沿所述透光基板的外周沿的延伸方向延伸设置。
11.在其中一个实施例中，所述第二限位部环绕所述测量孔设置。
12.在其中一个实施例中，所述透光基板呈椭圆形，所述第二限位部在所述盖板本体上的正投影呈连续或间断的椭圆环形。
13.在其中一个实施例中，所述第二限位部包括围绕所述测量孔间隔布设的多个弧形抵触部，每一所述弧形抵触部沿所述透光基板的外周沿的延伸方向延伸设置。
14.在其中一个实施例中，所述多个弧形抵触部以第一对称轴为对象呈对称分布，且以第二对称轴为对象呈对称分布，所述第一对称轴和所述第二对称轴彼此垂直且均垂直于所述第一方向。
15.在其中一个实施例中，所述测量孔以所述第一对称轴为对象呈轴对称结构，且以所述第二对称轴为对象呈轴对称结构。
16.在其中一个实施例中，所述承载部件包括位于所述第一限位部外侧且彼此间隔设置的至少三个第一定位部；
17.所述盖板包括与所述第一定位部一一对应的至少三个第二定位部，所述第二定位部设于所述盖板本体朝向所述承载部的一侧，且与对应的第一定位部可拆卸地连接，以使所述盖板本体固定于所述预设位置。
18.在其中一个实施例中，所述第二定位部与对应的所述第一定位部磁吸连接。
19.在其中一个实施例中，所述第一定位部被配置为能够相对于所述承载部沿所述第一方向移动；和/或
20.所述第二定位部被配置为能够相对于所述盖板本体沿所述第一方向移动。
21.在其中一个实施例中，所述承载部上设有用于部分收容所述光学组件的收容槽；
22.多个所述第一定位部围绕所述收容槽的中心轴线等间距地布设。
23.根据本技术的另一个方面，提供了一种光轴测量设备，包括上述任一实施例所述的测量治具。
24.上述测量治具和光轴测量设备，将盖板本体可拆卸地设于承载部沿第一方向的第一侧，可使盖板本体固定于预设位置，此时第二限位部沿第一方向抵接于光学组件背离承载部的一侧，使得光学组件能够以预设位姿固定于承载部件上，然后，光轴测量设备的光轴测量机构发出的光线可通过测量孔，以测量光学元件的光轴相对于透光基板的中心轴的偏差度。如此，在对同一光学组件进行多次测量时，盖板本体均能固定于预设位置，对应地，在多次测量的过程中，第二限位部的位置也大致保持不变，使得光学组件均能够以预设位姿固定于承载部件上，如此，可大大地减小多次测量所得的测量值之间的偏差，也有利于提高多次测量的重复性，进而可提高光轴测量设备的测量准确性。
附图说明
25.图1示出了本技术一实施例中的测量治具的结构示意图。
26.图2示出了本技术一实施例中的承载部件的结构示意图。
27.图3示出了本技术一实施例中的盖板的结构示意图。
28.图4示出了本技术另一实施例中的测量治具的结构示意图。
29.图5示出了本技术一实施例中的承载部件和光学组件的俯视示意图。
30.图6示出了图5的局部结构示意图。
31.图7示出了本技术另一实施例中的盖板的结构示意图。
32.图8示出了本技术又一实施例中的测量治具的结构示意图。
33.图9示出了本技术还有一实施例中的测量治具的结构示意图。
34.附图标记：10、测量治具；110、承载部件；111、承载部；1111、收容槽；112、第一限位部；1121、子限位部；113、支撑板部；114、第一定位部；120、盖板；121、盖板本体；1211、测量孔；1212、螺纹孔；122、第二限位部；1221、弧形抵触部；123、第二定位部；130、活动部件；20、光学组件；21、透光基板；22、光学元件。
具体实施方式
35.为使本技术的上述目的、特征和优点能够更加明显易懂，下面结合附图对本技术的具体实施方式做详细的说明。在下面的描述中阐述了很多具体细节以便于充分理解本技术。但是本技术能够以很多不同于在此描述的其它方式来实施，本领域技术人员可以在不违背本技术内涵的情况下做类似改进，因此本技术不受下面公开的具体实施例的限制。
36.在本技术的描述中，需要理解的是，若有出现这些术语“中心”、“纵向”、“横向”、“长度”、“宽度”、“厚度”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”、“顺时针”、“逆时针”、“轴向”、“径向”、“周向”等，这些术语指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本技术和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本技术的限制。
37.此外，若有出现这些术语“第一”、“第二”，这些术语仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括至少一个该特征。在本技术的描述中，若有出现术语“多个”，“多个”的含义是至少两个，例如两个，三个等，除非另有明确具体的限定。
38.在本技术中，除非另有明确的规定和限定，若有出现术语“安装”、“相连”、“连接”、“固定”等，这些术语应做广义理解。例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或成一体；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通或两个元件的相互作用关系，除非另有明确的限定。对于本领域的普通技术人员而言，可以根据具体情况理解上述术语在本技术中的具体含义。
39.在本技术中，除非另有明确的规定和限定，若有出现第一特征在第二特征“上”或“下”等类似的描述，其含义可以是第一和第二特征直接接触，或第一和第二特征通过中间媒介间接接触。而且，第一特征在第二特征“之上”、“上方”和“上面”可是第一特征在第二特征正上方或斜上方，或仅仅表示第一特征水平高度高于第二特征。第一特征在第二特征“之下”、“下方”和“下面”可以是第一特征在第二特征正下方或斜下方，或仅仅表示第一特征水平高度小于第二特征。
40.需要说明的是，若元件被称为“固定于”或“设置于”另一个元件，它可以直接在另一个元件上或者也可以存在居中的元件。若一个元件被认为是“连接”另一个元件，它可以是直接连接到另一个元件或者可能同时存在居中元件。如若存在，本技术所使用的术语“垂直的”、“水平的”、“上”、“下”、“左”、“右”以及类似的表述只是为了说明的目的，并不表示是唯一的实施方式。
41.显示设备包括透光基板和贴合于透光基板上的光学元件，根据制程要求，需要使贴合于透光基板上的光学元件(如偏光片)的光轴处于预设方向。
42.经过研究发现，传统的光轴测量设备在多次对同一光学组件(光学组件包括透光基板和光学元件)中光学元件的光轴相对于透光基板的中心轴的偏差度进行测量时，多次测量所得的测量值偏差较大，进而导致传统的光轴测量设备的测量准确性较低。
43.经过深入研究发现，传统的光轴测量设备包括用于承载透光基板和光学元件的承载部，多次对同一光学组件进行测量的过程中，光学组件在承载部上的放置位置会发生变化或光学组件容易相对于承载部旋转，进而导致多次测量所得的测量值偏差较大，故传统
的光轴测量设备的测量准确性较低。
44.为了解决传统的光轴测量设备的测量准确性较低的问题，本技术设计了一种测量治具，用于辅助测量光学组件，且利用测量治具可使光学组件能够以预设位姿固定于测量治具上，如此，多次对同一光学组件进行测量的过程中，光学组件均能够以预设位姿固定于测量治具上，可大大地减小多次测量所得的测量值之间的偏差，进而可提高光轴测量设备的测量准确性。
45.图1示出了本技术一实施例中的测量治具10的结构示意图，图2示出了本技术一实施例中的承载部件110的结构示意图，图3示出了本技术一实施例中的盖板120的结构示意图。
46.请参阅图1-图3，本技术一实施例提供的测量治具10，用于辅助测量光学组件20，光学组件20包括透光基板21和设于透光基板21上的光学元件22，测量治具10用于辅助测量光学元件22的光轴相对于透光基板21的中心轴的偏差度。其中，透光基板21可以是玻璃基板，光学元件22可以是偏光片。
47.测量治具10包括承载部件110和盖板120。如图2所示，承载部件110包括用于承载光学组件20的承载部111，以及围绕于承载部111设置的第一限位部112，第一限位部112限位于承载部111上的光学组件20的外侧，可以利用承载部111和第一限位部112初步将光学组件20限位。
48.承载部111是指承载部件110上能够承载光学组件20的部位，可以利用承载部111将光学组件20平放在承载部件110上，比如，光学组件20可直接平放在承载部111的顶面上(如图1所示)；再比如，可在承载部111上开设用于部分收容光学组件20的收容槽1111，以便光学组件20平放在承载部件110上。收容槽1111可形成于承载部111的中部，且沿第一方向朝远离盖板120的一侧凹陷形成(如图4所示)。
49.承载部件110还可以包括支撑板部113，承载部111和第一限位部112均设于支撑板部113上，便于承载部件110平放在光轴测量设备的机台上。支撑板部113可以为一层板结构或多层板体结构(可以结合图1或图5进行理解)，只有能利用支撑板部113将承载部件110平放在光轴测量设备的机台即可。
50.可选地，第一限位部112可以是一个整体，环绕于光学组件20，也可以包括彼此间隔设置的至少两个子限位部1121，至少两个子限位部1121限位于光学组件20的相对两侧，以限制光学组件20在水平方向上的移动。
51.请参阅图3，盖板120包括盖板本体121和第二限位部122，盖板本体121可拆卸地设于承载部111沿第一方向f1的第一侧，以被固定于预设位置。
52.可通过螺钉将盖板本体121可拆卸地设于承载部111沿第一方向f1的第一侧，以使盖板本体121处于预设位置。也可通过磁吸的方式将盖板本体121可拆卸地设于承载部111沿第一方向f1的第一侧，以使盖板本体121处于预设位置。也可以采用凹凸卡接的方式将盖板本体121可拆卸地设于承载部111沿第一方向f1的第一侧，以使盖板本体121处于预设位置。当然，也可以采用其他方式将盖板本体121可拆卸地设于承载部111沿第一方向f1的第一侧，以使盖板本体121处于预设位置。在此不作具体限制。
53.盖板本体121沿第一方向f1贯穿设有测量孔1211，第二限位部122设于盖板本体121朝向承载部111的一侧，且围绕测量孔1211设置。当盖板本体121处于预设位置时，第二
限位部122沿第一方向f1抵接于光学组件20背离承载部111的一侧，以使光学组件20能够以预设位姿固定于承载部件110上(请结合图3进行理解)。
54.可以理解，将盖板本体121可拆卸地设于承载部111沿第一方向f1的第一侧，可使盖板本体121固定于预设位置，此时第二限位部122沿第一方向f1抵接于光学组件20背离承载部111的一侧，使得光学组件20能够以预设位姿固定于承载部件110上，然后，光轴测量设备的光轴测量机构发出的光线可通过测量孔1211，以测量光学元件22的光轴相对于透光基板21的中心轴的偏差度。如此，在对同一光学组件20进行多次测量时，盖板本体121均能固定于预设位置，对应地，在多次测量的过程中，第二限位部122的位置也大致保持不变，使得光学组件20均能够以预设位姿固定于承载部件110上，如此，可大大地减小多次测量所得的测量值之间的偏差，也有利于提高多次测量的重复性，进而可提高光轴测量设备的测量准确性。
55.在一些实施例中，第二限位部122沿透光基板21的外周沿的延伸方向延伸设置。
[0056]“第二限位部122沿透光基板21的外周沿的延伸方向延伸设置”可以是指第二限位部122沿透光基板21的外周沿的延伸方向连续地延伸设置，也可以是指第二限位部122沿透光基板21的外周沿的延伸方向间断地延伸设置，在此不作具体限制。
[0057]
如此，第二限位部122相对于透光基板21的外轮廓仿形设置，也即第二限位部122相对于光学组件20的外轮廓仿形设置，可很好地利用第二限位部122限制光学组件20在水平方向的位置，且由于第二限位部122沿透光基板21的外周沿延伸设置，结合盖板本体121被固定于预设位置，如此，多次测量的过程中，第二限位部122的位置能大致保持不变，利用位置保持不变的第二限位部122对光学组件20进行仿形限位，相当于利用位置保持不变的第二限位部122对光学组件20的位置进行一定程度的校正，使光学组件20在多次测量的过程中均能够以预设位姿固定于承载部件110上，且光学组件20相对于承载部件110的位置也能大致保持不变，如此，有利于提高多次测量的重复性，进而可提高光轴测量设备的测量准确性。
[0058]
在一些实施例中，第二限位部122环绕测量孔1211设置。
[0059]
比如透光基板21呈椭圆形(可结合图6进行理解)，第二限位部122呈椭圆形且同轴地环绕测量孔1211设置(如图3及图7所示)。再比如，透光基板21呈圆形，第二限位部122呈圆形且同轴地环绕测量孔1211设置。
[0060]
如此，可利用第二限位部122限位于光学组件20的外周，也就是说，第二限位部122的各处分别对光学组件20的对应位置进行限位，如此，能够很好地借助于位置保持不变的第二限位部122来使光学组件20以预设位姿限位在承载部件110上。
[0061]
在一些实施例中，透光基板21呈椭圆形，第二限位部122在盖板本体121上的正投影呈连续或间断的椭圆环形。
[0062]
可以理解，第二限位部122的弧度与透光基板21的弧度相对应，如此，能够很好地利用第二限位部122限制光学组件20(光学组件20的弧度与透光基板21的弧度相同)的位置，进而利用位置保持不变的第二限位部122对光学组件20的位置进行一定程度的校正，使光学组件20在多次测量的过程中均能够以预设位姿固定于承载部件110上。
[0063]
在一些实施例中，请参阅图7，第二限位部122包括围绕测量孔1211间隔布设的多个弧形抵触部1221，每一弧形抵触部1221沿透光基板21的外周沿的延伸方向延伸设置。
[0064]
可以理解的是，当盖板本体121处于预设位置时，多个弧形抵触部1221分别沿第一方向f1抵接于光学组件20背离承载部111的一侧，且由于弧形抵触部1221沿透光基板21的外周沿的延伸方向延伸设置，能够利用多个弧形抵触部1221很好地对光学组件20进行限位，也可对光学组件20的位置进行一定程度的校正，使得光学组件20能够以预设位姿固定于承载部件110上。在第二定位部123与对应的第一定位部114磁吸的过程中，由于多个弧形抵触部1221间隔布设，可减小第二限位部122与光学组件20的接触面积，使得盖板本体121能够固定于预设位置的同时，也可减小光学组件20因碰撞而出现损伤的概率，可以很好地保护光学组件20。
[0065]
在一些实施例中，多个弧形抵触部1221以第一对称轴s1为对象呈对称分布，且以第二对称轴s2为对象呈对称分布，第一对称轴s1和第二对称轴s2彼此垂直且均垂直于第一方向f1。
[0066]
如此，可利用多个弧形抵触部1221很好地对光学组件20进行限位，也可对光学组件20的位置进行一定程度的校正，使得光学组件20能够以预设位姿固定于承载部件110上。此外，还可使光轴测量设备的参考轴平行于第一方向f1，且使第一对称轴s1和第二对称轴s2的虚拟交点位于光轴测量设备的参考轴上，便于以预设位姿固定于承载部件110上的光学组件20的透光基板21的中心轴能够与光轴测量设备的参考轴同轴设置，便于测量光学元件22的光轴相对于透光基板21的中心轴的偏差度。
[0067]
在本实施例中，测量孔1211以第一对称轴s1为对象呈轴对称结构，且以第二对称轴s2为对象呈轴对称结构。
[0068]
如此，在测量过程中，可以测量孔1211的中心轴作为参照基准，比如可使光轴测量设备的参考轴与测量孔1211的中心轴同轴设置，便于以预设位姿固定于承载部件110上的光学组件20的透光基板21的中心轴能够与光轴测量设备的参考轴同轴设置，进而便于测量光学元件22的光轴相对于透光基板21的中心轴的偏差度，可提高测量的便利性。
[0069]
在本实施例中，当盖板本体121处于预设位置时，两个子限位部1121以第二对称轴s2为对象呈对称分布，如此，可利用多个弧形抵触部1221很好地对限位于两个子限位部1121之间的光学组件20进行限位，便于测量光学元件22的光轴相对于透光基板21的中心轴的偏差度。
[0070]
在一些实施例中，承载部件110包括位于第一限位部112外侧且彼此间隔设置的至少三个第一定位部114，盖板120包括与第一定位部114一一对应的至少三个第二定位部123，第二定位部123设于盖板本体121朝向承载部111的一侧，且与对应的第一定位部114可拆卸地连接，以使盖板本体121固定于预设位置。
[0071]
具体地，第一定位部114设于支撑板部113朝向承载部111的一侧。
[0072]
利用第一定位部114和对应的第二定位部123可拆卸地连接，且第一定位部114和第二定位部123的数量均为至少三个，结合三点定面的原理，可以使盖板本体121固定于预设位置，以便多次测量的过程中，第二限位部122的位置能大致保持不变，且利用位置保持不变的第二限位部122对光学组件20进行仿形限位，相当于利用位置保持不变的第二限位部122对光学组件20的位置进行一定程度的校正，使光学组件20在多次测量的过程中均能够以预设位姿固定于承载部件110上，且光学组件20相对于承载部件110的位置也能大致保持不变，如此，有利于提高多次测量的重复性，进而可提高光轴测量设备的测量准确性。
[0073]
在本实施例中，第二定位部123与对应的第一定位部114磁吸连接。
[0074]
可以是，第二定位部123与对应的第一定位部114直接接触而磁吸连接(如图8所示)，也可以是，第二定位部123与对应的第一定位部114彼此间隔设置而磁吸连接(如图1所示)。在此不作具体限制。
[0075]
利用第二定位部123与对应的第一定位部114之间的磁吸力，能很好地将盖板本体121固定于预设位置。
[0076]
可选地，多个第一定位部114的外轮廓的构造相同，第一定位部114的外轮廓的构造和对应的第二定位部123的外轮廓的构造相同，多个第二定位部123的外轮廓的构造相同，如此，可使多个第一定位部114和多个第二定位部123中，第二定位部123与对应的第一定位部114之间的磁吸力保持不变，更有利于将盖板本体121固定于预设位置。
[0077]
在一些实施例中，第一定位部114被配置为能够相对于承载部111沿第一方向f1移动。
[0078]
也就是说，能够使第一定位部114相对于承载部111沿第一方向f1移动，进而调节第一定位部114和对应的第二定位部123之间的间距d，可以理解的是，第二定位部123与对应的第一定位部114之间的磁吸力与d负相关，如此，可以通过增大d而减小第二定位部123与对应的第一定位部114之间的磁吸力，进而在第二定位部123与对应的第一定位部114磁吸的过程中，可减小第二限位部122对光学组件20的碰撞力，减小光学组件20因碰撞而出现损伤的概率，使得盖板本体121能够固定于预设位置的同时，也可以很好地保护光学组件20。
[0079]
在一些实施例中，第二定位部123被配置为能够相对于盖板本体121沿第一方向f1移动。
[0080]
也就是说，能够使第二定位部123相对于盖板本体121沿第一方向f1移动，进而调节第一定位部114和对应的第二定位部123之间的间距d，可以理解的是，第二定位部123与对应的第一定位部114之间的磁吸力与d负相关，如此，可以通过增大d而减小第二定位部123与对应的第一定位部114之间的磁吸力，进而在第二定位部123与对应的第一定位部114磁吸的过程中，可减小第二限位部122对光学组件20的碰撞力，减小光学组件20因碰撞而出现损伤的概率，使得盖板本体121能够固定于预设位置的同时，也可以很好地保护光学组件20。
[0081]
具体到如图9所示的实施例中，测量治具10还包括沿第一方向f1活动地穿设于盖板本体121的活动部件130，活动部件130朝向承载部件110的一端连接有第二定位部123，第二定位部123能够伸出盖板本体121朝向承载部件110的一侧侧壁，具体地，活动部件130以为螺栓，可通过旋转活动部件130，使活动部件130沿第一方向f1移动，进而调整第二定位部123沿第一方向f1相对于盖板本体121的位置，进而可以减小第二定位部123与对应的第一定位部114之间的磁吸力，以将盖板本体121固定于预设位置的同时，也能够很好地保护光学组件20。
[0082]
可选地，盖板本体121上沿第一方向f1贯穿设置的螺纹孔1212，活动部件130螺纹连接于螺纹孔1212的侧壁，且活动部件130朝向承载部111的一端设有第二定位部123，如此，就可以利用活动部件130调整第二定位部123沿第一方向f1相对于盖板本体121的位置。
[0083]
在还有一些实施例中，第一定位部114被配置为能够相对于承载部111沿第一方向
f1移动，第二定位部123被配置为能够相对于盖板本体121沿第一方向f1移动。
[0084]
如此，可以根据需要调节第一定位部114和对应的第二定位部123之间的间距d，比如，可通过增大d而减小第二定位部123与对应的第一定位部114之间的磁吸力，进而在第二定位部123与对应的第一定位部114磁吸的过程中，可减小第二限位部122对光学组件20的碰撞力，减小光学组件20因碰撞而出现损伤的概率，使得盖板本体121能够固定于预设位置的同时，也可以很好地保护光学组件20。
[0085]
在一些实施例中，承载部111上设有用于部分收容光学组件20的收容槽1111，多个第一定位部114围绕收容槽1111的中心轴线等间距地布设。
[0086]
可以理解，当盖板本体121处于预设位置时，多个第二定位部123围绕收容槽1111的中心轴线等间距地布设，如此，使得处于预设位姿的光学组件20的中心轴能够与收容槽1111的中心轴线同轴设置，便于利用该测量治具10对部分设于收容槽1111内的光学组件20进行测量，即便于测量光学元件22的光轴相对于透光基板21的中心轴的偏差度。
[0087]
在本实施例中，多个弧形抵触部1221围绕收容槽1111的中心轴线间隔布设，以预设位姿固定于承载部件110上的光学组件20的中心轴能够与收容槽1111的中心轴线彼此重合，可使光学组件20稳定地以预设位姿固定于承载部件110上，便于利用该测量治具10对部分设于收容槽1111内的光学组件20进行测量，即便于测量光学元件22的光轴相对于透光基板21的中心轴的偏差度。
[0088]
在一些实施例中，如下表1及表2，表1给出了利用本技术的测量治具10对不同批次的光学组件20进行测量的测量值一览表，表1给出了对照组中对不同批次的光学组件20进行测量的测量值一览表，其中，对照组中，将光学组件20放置在承载部111和第一限位部112围设形成的限位槽中，并未设置本技术的盖板120，由于光学组件20与第一限位部112之间间隔设置，多次对同一光学组件20进行测量的过程中，光学组件20在限位槽内的放置位置会发生变化或光学组件20容易相对于限位槽旋转。表1和表2中第一次试验、第二次试验和第三次试验对应的数值分别为在三次试验对同一光学组件20中光学元件22的光轴相对于透光基板21的中心轴的偏差度进行测量时的测量值，偏差值为第一次试验、第二次试验和第三次试验对应的数值中的最大值和最小值之间的差值。
[0089]
表1给出了利用本技术的测量治具10对不同批次的光学组件20进行测量的测量值一览表
[0090][0091]
表2给出了对照组中对不同批次的光学组件20进行测量的测量值一览表
[0092][0093]
从表1及表2可知，相较于对照组，利用本技术的测量治具10，在分别对同一光学组件20中光学元件22的光轴相对于透光基板21的中心轴的偏差度进行多次测量时，第一次试验、第二次试验和第三次试验所得的测量值大致相等，也就是说，根据第一次试验、第二次试验和第三次试验所得的测量值计算所得的偏差值较小，由此，可以理解的是，在多次测量的过程中，可利用本技术的测量治具10，使得光学组件20均能够以预设位姿固定于承载部件110上，且光学组件20相对于承载部件110的位置也能大致保持不变，如此，可大大地减小多次测量所得的测量值之间的偏差，也有利于提高多次测量的重复性，进而可提高光轴测量设备的测量准确性。
[0094]
以上所述实施例的各技术特征可以进行任意的组合，为使描述简洁，未对上述实施例中的各个技术特征所有可能的组合都进行描述，然而，只要这些技术特征的组合不存在矛盾，都应当认为是本说明书记载的范围。
[0095]
以上所述实施例仅表达了本技术的几种实施方式，其描述较为具体和详细，但并不能因此而理解为对申请专利范围的限制。应当指出的是，对于本领域的普通技术人员来说，在不脱离本技术构思的前提下，还可以做出若干变形和改进，这些都属于本技术的保护范围。因此，本技术专利的保护范围应以所附权利要求为准。