1.本实用新型涉及雾化技术领域，特别是涉及雾化器及电子雾化装置。
背景技术：
2.气溶胶是一种由固体或液体小质点分散并悬浮在气体介质中形成的胶体分散体系，由于气溶胶可通过呼吸系统被人体吸收，为用户提供一种新型的替代吸收方式，例如可对草本类或膏类的气溶胶生成基质烘烤加热而产生气溶胶的雾化装置，应用于不同领域中，为用户递送可供吸入的气溶胶，替代常规的产品形态及吸收方式。
3.一般地，电子雾化装置利用雾化器对气溶胶生成基质进行加热，气溶胶生成基质为受热后能产生气溶胶的基质材料。然而，相关技术中，当用户正常抽吸时，雾化器的储液腔内剩余的少量气溶胶生成基质无法到达雾化芯进行雾化，存在剩液现象，会造成一定的气溶胶生成基质浪费。
技术实现要素：
4.基于此，有必要针对气溶胶生成基质剩液浪费的问题，提供一种雾化器、密封件及电子雾化装置。
5.一种雾化器，所述雾化器包括：
6.壳体；
7.雾化芯及安装座，所述雾化芯至少部分设于所述安装座内，所述壳体套设于所述安装座外，且所述壳体与所述安装座之间界定形成储液腔；
8.其中，所述安装座上开设有第一下液通道及第二下液通道，所述第一下液通道连通所述储液腔与所述雾化芯，所述第二下液通道连通所述储液腔与所述第一下液通道。
9.上述雾化器中，安装座上开设有第一下液通道，第一下液通道连通储液腔与雾化芯，允许储液腔内的气溶胶生成基质流向雾化芯，向雾化芯供液，雾化芯通电发热后便可加热雾化气溶胶生成基质，形成供用户抽吸的烟雾。并且，安装座上开设有第二下液通道，第二下液通道连通储液腔与第一下液通道，储液腔内的气溶胶生成基质可通过第二下液通道流向第一下液通道，最后流向雾化芯，向雾化芯供液。如此，安装座上不仅开设第一下液通道，还开设第二下液通道，储液腔内的气溶胶生成基质不仅通过第一下液通道向雾化芯供液，还通过第二下液通道向雾化芯供液，可以将储液腔内更多的气溶胶生成基质引导向雾化芯，防止储液腔内出现剩液现象，防止气溶胶生成基质浪费。
10.在其中一个实施例中，所述雾化器还包括密封件，所述密封件套设于所述安装座朝向所述储液腔的顶端，并密封所述安装座与所述壳体之间的间隙；
11.所述密封件上开设有与所述第一下液通道对应连通的第一下液孔、及与所述第二下液通道对应连通的第二下液孔。
12.在其中一个实施例中，所述密封件包括本体和凸台，所述本体套设于所述安装座的所述顶端，所述凸台设于所述本体面向所述安装座的一面，并嵌设于所述第二下液通道
内，所述第二下液孔贯穿所述本体及所述凸台开设。
13.在其中一个实施例中，所述凸台与所述第二下液通道的底壁之间预留有间隙。
14.在其中一个实施例中，所述第二下液通道包括主槽及连通槽，所述连通槽开设于所述主槽的底壁上并延伸至与所述第一下液通道连通；
15.所述凸台嵌设于所述主槽内，所述第二下液孔与所述连通槽连通。
16.在其中一个实施例中，在所述第二下液通道至所述第一下液通道的方向上，所述连通槽的底壁被构造为向远离所述储液腔的方向倾斜设置。
17.在其中一个实施例中，所述第二下液孔具有辅助下液入口，所述密封件面向所述储液腔的表面上开设有引导槽，所述辅助下液入口位于所述引导槽的底部；
18.并且，在所述引导槽的外周至所述辅助下液入口的方向上，所述引导槽的槽深逐渐增大。
19.在其中一个实施例中，所述引导槽呈倒锥形开设。
20.在其中一个实施例中，所述第二下液孔包括相互连通的第一孔段和第二孔段，所述第一孔段与所述储液腔连通，所述第二孔段与所述第二下液通道连通，所述第一孔段位于所述第二孔段和所述储液腔之间；
21.在所述第一孔段指向所述第二孔段的方向上，所述第一孔段的内径逐渐减小。
22.在其中一个实施例中，所述储液腔的横截面呈椭圆形，所述第一下液通道和所述第二下液通道沿所述椭圆形的长轴方向排布。
23.一种电子雾化装置，其特征在于，包括上述雾化器。
附图说明
24.图1为本实用新型一实施例中雾化器的截面示意图；
25.图2为图1所示雾化器隐藏壳体后的结构示意图；
26.图3为图2所示雾化器中隐藏密封件后的结构示意图。
27.附图标记：100、雾化器；10、壳体；11、储液腔；30、安装座；31、第一下液通道；33、第二下液通道；332、主槽；334、连通槽；50、雾化芯；70、密封件；72、第一下液孔；73、引导槽；74、第二下液孔；742、第一孔段；744、第二孔段；75、本体；76、凸台。
具体实施方式
28.为使本实用新型的上述目的、特征和优点能够更加明显易懂，下面结合附图对本实用新型的具体实施方式做详细的说明。在下面的描述中阐述了很多具体细节以便于充分理解本实用新型。但是本实用新型能够以很多不同于在此描述的其它方式来实施，本领域技术人员可以在不违背本实用新型内涵的情况下做类似改进，因此本实用新型不受下面公开的具体实施例的限制。
29.在本实用新型的描述中，需要理解的是，术语“中心”、“纵向”、“横向”、“长度”、“宽度”、“厚度”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”、“顺时针”、“逆时针”、“轴向”、“径向”、“周向”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本实用新型和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本实用新型
的限制。
30.此外，术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括至少一个该特征。在本实用新型的描述中，“多个”的含义是至少两个，例如两个，三个等，除非另有明确具体的限定。
31.在本实用新型中，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”、“固定”等术语应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或成一体；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通或两个元件的相互作用关系，除非另有明确的限定。对于本领域的普通技术人员而言，可以根据具体情况理解上述术语在本实用新型中的具体含义。
32.在本实用新型中，除非另有明确的规定和限定，第一特征在第二特征“上”或“下”可以是第一和第二特征直接接触，或第一和第二特征通过中间媒介间接接触。而且，第一特征在第二特征“之上”、“上方”和“上面”可是第一特征在第二特征正上方或斜上方，或仅仅表示第一特征水平高度高于第二特征。第一特征在第二特征“之下”、“下方”和“下面”可以是第一特征在第二特征正下方或斜下方，或仅仅表示第一特征水平高度小于第二特征。
33.需要说明的是，当元件被称为“固定于”或“设置于”另一个元件，它可以直接在另一个元件上或者也可以存在居中的元件。当一个元件被认为是“连接”另一个元件，它可以是直接连接到另一个元件或者可能同时存在居中元件。本文所使用的术语“垂直的”、“水平的”、“上”、“下”、“左”、“右”以及类似的表述只是为了说明的目的，并不表示是唯一的实施方式。
34.参阅图1-图2，本实用新型一实施例中提供一种雾化器100，包括壳体10、安装座30及雾化芯50，雾化芯50至少部分设于安装座30内，以通过安装座30固定安装雾化芯50。壳体10套设于安装座30外，壳体10与安装座30之间界定形成用于容置气溶胶生成基质的储液腔11，且安装座30上开设有第一下液通道31。第一下液通道31连通储液腔11与雾化芯50，允许储液腔11内的气溶胶生成基质流向雾化芯50，以向雾化芯50供液，使得雾化芯50通电发热后便可加热雾化气溶胶生成基质，形成供用户抽吸的烟雾。
35.并且，安装座30上开设有第二下液通道33，第二下液通道33连通储液腔11与第一下液通道31，储液腔11内的气溶胶生成基质可通过第二下液通道33流向第一下液通道31，最后流向雾化芯50，向雾化芯50供液。如此，安装座30上不仅开设第一下液通道31，还开设第二下液通道33，储液腔11内的气溶胶生成基质不仅通过第一下液通道31向雾化芯50供液，还通过第二下液通道33向雾化芯50供液，可以将储液腔11内更多的气溶胶生成基质引导向雾化芯50，防止储液腔11内出现剩液现象，防止气溶胶生成基质浪费。
36.进一步地，雾化器100还包括密封件70，密封件70套设于安装座30朝向储液腔11的顶端，并密封安装座30与壳体10之间的间隙，以通过密封件70密封储液腔11，防止储液腔11内的气溶胶生成基质从安装座30与壳体10之间的缝隙向外泄露。并且，密封件70上开设有与第一下液通道31对应连通的第一下液孔72、及与第二下液通道33对应连通的第二下液孔74，这样套设在安装座30顶端的密封件70，在密封储液腔11的同时，通过第一下液孔72和第二下液孔74允许储液腔11内的气溶胶生成基质分别流向第一下液通道31和第二下液通道33，以向雾化芯50供液。
37.一些实施例中，储液腔11整体呈扁平状且其横截面呈椭圆形，第一下液通道31和第二下液通道33沿椭圆形的长轴方向排布，在椭圆形的长轴方向上增大下液范围，以防止储液腔11内留存剩液。具体地，第一下液通道31和第二下液通道33的数量均为两个，在椭圆形的长轴方向上，两个第一下液通道31位于两个第二下液通道33之间，一第二下液通道33和一第一下液通道31均位于储液腔11长轴方向的一侧且相互连通，另一第二下液通道33和另一第一下液通道31均位于储液腔11长轴方向的另一侧且相互连通，这样在储液腔11的长轴方向上在左右两侧设置两组下液通道，以均匀有效地向雾化芯50供液。
38.一些实施例中，密封件70包括本体75和凸台76，本体75套设于安装座30的顶端，凸台76设于本体75面向安装座30的一面，并嵌设于第二下液通道33内，以通过凸台76和第二下液通道33的嵌设对密封件70进行限位，防止密封件70套设于安装座30上以后发生位移。并且，第二下液孔74贯穿本体75及凸台76开设，以允许储液腔11内的气溶胶生成基质通过本体75及凸台76上的第二下液孔74后流入安装座30的第二下液通道33内。
39.进一步地，凸台76与第二下液通道33的底壁之间预留有间隙，也就是在第二下液通道33的底部预留一定的空间，以与贯穿凸台76的第二下液孔74连通，从第二下液孔74中流出的气溶胶生成基质可流向第二下液通道33底部预留的间隙内，进而流向第一下液通道31为雾化芯50供液，防止凸台76与第二下液通道33的底壁完全贴合后堵塞第二下液通道33。
40.参阅图1及图3，一些实施例中，第二下液通道33包括主槽332及连通槽334，连通槽334开设于主槽332的底壁上并延伸至与第一下液通道31连通，密封件70上的凸台76嵌设于主槽332内，第二下液孔74与连通槽334连通。这样，在主槽332的底壁上开设一个连通槽334，连通槽334位于凸台76下方，可与贯穿本体75和固态的第二下液孔74连通，储液腔11内的气溶胶生成基质通过第二下液孔74后流向连通槽334，最后流向第一下液通道31后向雾化芯50供液。
41.进一步地，在第二下液通道33至第一下液通道31的方向上，连通槽334的底壁被构造为向远离储液腔11的方向倾斜设置。如图1所示，储液腔11在连通槽334的上方，连通槽334的底壁向远离储液腔11的方向倾斜设置，即为向下倾斜设置，这样在第二下液通道33内的气溶胶生成基质通过连通槽334向第一下液通道31流动时，通过连通槽334倾斜向下的底壁有效引导气溶胶生成基质流动，防止第二下液通道33内积聚并堵塞气溶胶生成基质，以充分引导利用气溶胶生成基质。
42.可以理解地，其他一些实施例中，第二下液通道33包括相互连通的第一通道和第二通道，凸台76嵌设于第一通道内，第二通道位于凸台下方且与第一下液通道31连通。相当于，使第二下液通道33的底部预留的间隙形成第二通道，凸台76仅嵌设于第二通道上方的第一通道内，从凸台76上流出的气溶胶生成基质可存储在第二通道内，最后流向第一下液通道31向雾化芯50供液。另外，可以进一步在第二通道的底壁上开设上述实施例中的连通槽334，或者不在第二通道的底壁上开设上述实施例中的连通槽334，仅在安装座30上开设连通第二通道与第一下液通道31的过孔，对于第二下液通孔与第一下液通道31之间的连通方式在此不做限定。
43.参阅图1-图2，一些实施例中，第二下液孔74具有辅助下液入口，密封件70面向储液腔11的表面上开设有引导槽73，辅助下液入口位于引导槽73的底部。在一些实施例中，在
引导槽73的外周至辅助下液入口的方向上，引导槽73的槽深逐渐增大。这样，在密封件70的表面上设置引导槽73，且使辅助下液入口位于引导槽73凹陷最深处，即辅助下液入口位于引导槽73底部，可通过引导槽73将储液腔11内的气溶胶生成基质顺畅地引导至辅助下液入口处，以防止气溶胶基质剩余积累在储液腔11内。具体引导槽73呈倒锥形开设，使引导槽73的槽深从外周至中心的方向上逐渐增大，辅助下液口位于引导槽73的中心处，引导槽73的底壁由外向内逐渐向下倾斜，即引导槽73的槽深逐渐增大，以将储液腔11内残余的气溶胶生成基质有效引导至第二下液孔74内。
44.一些实施例中，第二下液孔74包括相互连通的第一孔段742和第二孔段744，第一孔段742与储液腔11连通，第二孔段744与第二下液通道33连通，第一孔段742位于第二孔段744与储液腔11之间；在第一孔段742指向第二孔段744的方向上，第一孔段742的内径逐渐减小，如此将第一孔段742的内表面设置为逐渐向内倾斜的斜面，第一孔段742和第二孔段744形成的第二下液孔74类似漏斗，可进一步引导储液腔11内的气溶胶生成基质向第二下液通道33流动。
45.具体地，第一孔段742远离第二孔段744的一端形成上述实施例中的辅助下液入口，可围绕辅助下液入口成型上述引导槽73，储液腔11内的气溶胶生成基质在引导槽73及第一孔段742的依次引导下可有效顺畅地流向第二下液通道33，进而通过第一下液通道31向雾化芯50供液。
46.本实用新型一实施例中，还提供一种电子雾化装置，包括上述雾化器100，雾化器100中的安装座30上开设有第一下液通道31及第二下液通道33，可通过第一下液通道31及第二下液通道33同时向雾化芯50供液，有效防止储液腔11内留存剩液。
47.以上所述实施例的各技术特征可以进行任意的组合，为使描述简洁，未对上述实施例中的各个技术特征所有可能的组合都进行描述，然而，只要这些技术特征的组合不存在矛盾，都应当认为是本说明书记载的范围。
48.以上所述实施例仅表达了本实用新型的几种实施方式，其描述较为具体和详细，但并不能因此而理解为对实用新型专利范围的限制。应当指出的是，对于本领域的普通技术人员来说，在不脱离本实用新型构思的前提下，还可以做出若干变形和改进，这些都属于本实用新型的保护范围。因此，本实用新型专利的保护范围应以所附权利要求为准。