1.本实用新型涉及半导体清洗技术领域，尤其涉及一种硅片清洗装置。
背景技术：
2.在现有半导体技术中，硅片是制作集成电路的重要材料，通过对硅片进行光刻、离子注入等手段，可以制成各种半导体器件。
3.硅片在加工的过程中，需要清洗，现有的硅片清洗都是直接放入超声设备中，通过超声波的震荡完成清洗，但是这样的清洗还是不够全面，还是容易有灰尘残留。特别是清洗久了如果没有及时更换清洗液，那么水中灰尘较多，之后放入的硅片清洗完后就更容易有残留。
4.因此，发明一种硅片清洗装置，解决上述问题，迫在眉睫。
技术实现要素：
5.本实用新型提供一种硅片清洗装置，结构简单，能延长清洗液的使用时间，提高清洗效率，更加有效地清洗硅片。
6.为达此目的，本实用新型采用以下技术方案：一种硅片清洗装置，其特征在于，包括：底座，至少一个清洗单元；任一所述清洗单元具有清洗槽、溢液槽、气管、引流管、清洗升降架，以及置于所述清洗槽上方的电机、螺旋支架、进气组件；所述清洗槽内部设有超声波换能器，所述清洗升降架和所述螺旋支架连接，所述螺旋支架和所述电机连接，所述气管和所述进气组件连接，所述气管置于所述清洗槽内；所述溢液槽套于所述清洗槽外部，且所述清洗槽的高度低于所述溢液槽的高度，所述溢液槽和所述引流管相连；所述清洗槽和所述溢液槽置于所述底座的容纳腔内。
7.进一步地，所述清洗升降架和所述清洗槽为石英材质。
8.进一步地，所述清洗升降架通过一连接件和所述螺旋支架连接，所述连接件内部设有和所述螺旋支架相匹配的螺纹。
9.进一步地，所述电机控制所述螺旋支架转动，从而控制所述连接件上下移动。
10.本实用新型的有益效果如下：
11.(1)通过设置气管和进气组件，气管不断向所述清洗槽内通入空气进行吹气，可以及时将脏污吹向所述清洗槽中清洗液的表面。
12.(2)设有所述溢液槽，且所述清洗槽的高度低于所述溢液槽的高度，当清洗液的水位高于所述清洗槽时，会溢出流入所述溢液槽，因为脏污都在清洗液的表面，所以最先溢出的就是带有脏污的清洗液，这样剩下的清洗液仍然较为干净，可以继续循环使用，能延长清洗液的使用时间。
13.(2)在清洗过程中，所述清洗升降架进入装有清洗液的所述清洗槽中，并上下运动，除了超声波高频产生的“气化现象”的冲击，还有所述清洗槽不停地作上运动，增加了液体的摩擦，提高清洗效率。
附图说明
14.此处所说明的附图用来提供对本实用新型的进一步理解，构成本实用新型的一部分，本实用新型的示意性实施例及其说明用于解释本实用新型，并不构成对本实用新型的不当限定。在附图中：
15.图1是一种硅片清洗装置的侧视图。
16.图2是一种硅片清洗装置的俯视图。
17.图3是一种硅片清洗装置的主视图。
具体实施方式
18.为了使本技术领域的人员更好地理解本实用新型方案，下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。
19.请参照图1-图3，一种硅片清洗装置，包括：底座10，至少一个清洗单元20；任一所述清洗单元20具有清洗槽201、溢液槽202、气管(图中未示出)、引流管(图中未示出)、清洗升降架203，以及置于所述清洗槽201上方的电机(图中未示出)、螺旋支架204、进气组件(图中未示出)。
20.所述清洗槽201内部设有超声波换能器，通过所述超声波换能器，将功率超声频源的声能转换成机械振动，通过所述清洗槽201壁将超声波辐射到槽中的清洗液。由于受到超声波的辐射，使槽内液体中的微气泡能够在声波的作用下从而保持振动，从而将硅片上的灰尘震荡冲洗到液体中。
21.请参考图1，所述清洗升降架203和所述螺旋支架204连接，所述螺旋支架204和所述电机连接，具体地，所述清洗升降架203通过一连接件205和所述螺旋支架204连接，所述连接件205内部设有和所述螺旋支架204相匹配的螺纹。在本实用新型实施例中，所述电机控制所述螺旋支架204转动，从而控制所述连接件205上下移动，进而带动所述清洗升降架203上下移动。在其他实施例中，也可以是所述电机控制所述螺旋支架204上下移动，而所述连接件205和所述螺旋支架204固定连接，通过所述螺旋支架204上下移动带动所述连接件205上下移动，进而带动所述清洗升降架203上下移动。本实用新型对此不做限制。
22.请参考图2-图3，所述气管和所述进气组件连接，所述气管置于所述清洗槽201内，通过所述进气组件可以给向所述清洗槽201内通气，具体可以通入空气。所述溢液槽202套于所述清洗槽201外部，且所述清洗槽201的高度低于所述溢液槽202的高度。在使用过程中，气管不断向所述清洗槽201内通入空气进行吹气，可以及时将脏污吹向所述清洗槽201中清洗液的表面，因为设有所述溢液槽202，且所述清洗槽201的高度低于所述溢液槽202的高度，当清洗液的水位高于所述清洗槽201是，会溢出流入所述溢液槽202，因为脏污都在清洗液的表面，所以最先溢出的就是带有脏污的清洗液，这样剩下的清洗液仍然较为干净，可以继续循环使用。
23.所述溢液槽202和所述引流管相连，便于及时将脏污的清洗液排出。所述清洗槽201和所述溢液槽202置于所述底座10的容纳腔内101。需要说明的是，图1中示出的所述清
洗槽201因为置于所述底座10的容纳腔内101内部，因此仅仅是用虚线示意性地标出。本实用新型实施例中，提供了3个所述清洗单元20，在其他实施例中，可以提供更多或者更少。所述清洗升降架203和所述清洗槽201为石英材质，可以避免使用金属材质医生修，并且不会产生金属离子，使得清洗更加干净。
24.请参考图2，硅片放于清洗盒中，所述清洗盒置于所述清洗升降架203中的a区域。在清洗过程中，所述清洗升降架203进入装有清洗液的所述清洗槽201中，并上下运动，所述清洗槽201内通过超声波高频产生的“气化现象”的冲击和所述清洗槽201不停地作上下运动，增加了液体的摩擦，更有利于清洗，因此利用科学的超音波振子振动的原理，有效地清洁眼镜镜片，彻底清洁附着于硅片上的脏污。因为所述清洗升降架203的进入，且不停地上下运动，会使一部分清洗液溢出，进入所述溢液槽202，气管不断向所述清洗槽201内通入空气进行吹气，可以及时将脏污吹向所述清洗槽201中清洗液的表面，因为脏污都在清洗液的表面，所以最先溢出的就是带有脏污的清洗液，这样剩下的清洗液仍然较为干净，可以继续循环使用。
25.显然，上述仅为本实用新型的较佳实施例及所运用技术原理。本领域技术人员会理解，本实用新型不限于这里所述的特定实施例，对本领域技术人员来说能够进行各种明显的变化、重新调整和替代而不会脱离本实用新型的保护范围。因此，虽然通过以上实施例对本实用新型进行了较为详细的说明，但是本实用新型不仅仅限于以上实施例，在不脱离本实用新型构思的情况下，还可以包括更多其他等效实施例，而本实用新型的范围由所附的权利要求范围决定。